磁控溅射包括很多种类，每种溅射方式各有不同工作原理和应用对象，但是他们有一个共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出溅射靶材。在近几十年的发展中，大家逐渐采用永久磁铁，很少用线圈磁铁。

中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的，不同的是直流溅射把筒体当阳极，而中频溅射是成对的，筒体是否参加必须视整体设计而定，与整个系统溅射过程中，阳极阴极的安排有关，参与的比率周期有很多方法，不同的方法可得到不相同的溅射产额，得到不相同的离子密度。

中频溅射主要技术在于电源的设计与应用，目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出，各有其优缺点，首先应考虑膜层种类，分析哪种电源输出方式适合哪种膜层，可以用电源特性来得到想要的膜层效果。

中频的靶材用的对靶，溅射靶材有的用到三对。靶都是比较大，就中频而言，现在用的多的都是镀一些金属的工件。这样的真空炉一般都做的比较大，可以放下很多任务件，镀出来的膜层也更加的致密。